Yong-Hee Choi1,2, Ho-Kyun Jang1, Jun-Eon Jin1, Min-Kyu Joo1,3, Mingxing Piao1,
Jong Mok Shin1, Jae-Sung Kim1, Junhong Na1, and Gyu Tae Kim1*
Jpn. J. Appl. Phys. 53 046503
Received October 18, 2013; accepted January 10, 2014; published online March 14, 2014
홈페이지 URL : http://iopscience.iop.org/1347-4065/53/4/046503
논문 URL : http://iopscience.iop.org/1347-4065/53/4/046503/pdf/1347-4065_53_4_046503.pdf
DOI : 10.7567/JJAP.53.046503
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공동실험실에 새로 기증한 ICP-RIE를 활용하여, Cl2 gas와 Ar gas의 비율에 따라 HIZO의 etch rate가 변화하는 현상을 관찰하고
이를 분석한 논문입니다. 용희형께서 장비 구매, 설치 및 공정 조건 잡느라 고생 많이 하시는 와중에 나왔습니다ㅠㅠ 수고하셨습니다.
처음으로 여기에 글쓰려니 뭔가 두근두근 하네요ㅎ 앞으로 자주 올릴 수 있도록.... 노력하겠습니다~
너무 늦게 올려서 죄송합니다;;;; |
