Minju Shin, Ming Shi*, Mireille Mouis, Antoine Cros, Emmanuel Josse, Gyu-Tae Kim and Gérard Ghibaudo, "Low temperature characterization of mobility in advanced FD-SOI CMOS devices under interface coupling conditions", Solid state electronics 2015, 108, 30-35 >> published online 17 January 2015
BK/ 글로벌프론티어 사사
URL : http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0038110114003062
DOI : http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2014.12.013
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저온에서 상온까지 coupling condition을 이용하여 FD-SOI CMOS devices의 수송 특성을 분석한 논문입니다. 다시 한번 프랑스에서 공부할 수 있는 기회를 주신 교수님과 프랑스에 계시는 제라드 교수님과 밀레 교수님께 감사의 말씀을 전합니다. Ming 고마워~!! |
